| 问题 | 知识产权属于什么法律范畴 |
| 释义 | 法律分析：1.知识产权法律，如著作权法、专利法、商标法。2.知识产权行政法规。其主要有著作权法实施条例、计算机软件保护条例、专利法实施细则、商标法实施条例、知识产权海关保护条例、植物新品种保护条例、集成电路布图设计保护条例等。3.知识产权地方性法规、自治条例和单行条例，如深圳经济特区企业技术秘密保护条例。4.知识产权行政规章，如国家工商行政管理局关于禁止侵犯商业秘密行为的规定。5.知识产权司法解释，如《最高人民法院关于审理专利纠纷案件适用法律问题的若干规定》、《最高人民法院关于诉前停止侵犯注册商标专用权行为和保全证据适用法律问题的解释》。 一、集成电路布图设计可否取得专利权 根据相关法律规定，集成电路布图设计不能取得专利权，应由集成电路布图设计专有权进行保护。集成电路实际上是一种具有实用性的图形设计，其内容由集成电路中具有电子功能的元件位置进行决定，而非产品外观，因此不能落入《专利法》中外观设计专利保护的范畴。 根据《集成电路布图设计保护条例》 第二条：本条例下列用语的含义：(一)集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；(三)布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织；(四)复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；(五)商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。 第三条：中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。 二、侵权知识产权的诉讼时效为几年 侵犯知识产权的诉讼时效为2年，自权利人知道或应当知道之日起计算。专利权、商标权或著作权的权利人超过2年起诉的，如果该知识产权仍在保护期内，人民法院应当判决责令被告停止侵权行为；侵权损害赔偿数额应当自权利人向人民法院起诉之日起向前推算2年计算。最高人民法院2001年发布的《关于审理专利纠纷案件适用法律问题的若干规定》第23条、2002年发布的《关于审理著作权民事纠纷案件适用法律若干问题的解释》第28条、2002年发布的《关于审理商标民事纠纷案件适用法律若干问题的解释》第18条规定：专利权人、著作权人、商标权人超过2年起诉的，如果侵权行为在起诉时仍在持续，在专利权、著作权、商标权有效期限内，人民法院应当判决被告停止侵权行为，只是损害赔偿数额自权利人向人民法院起诉之日起向前推算2年计算。 法律依据：国家知识产权局《关于加强知识产权行政执法，开展专项执法行动的工作方案》六、工作要求：各省、自治区、直辖市知识产权局要根据本方案，结合本地区实际，立即从组织领导、工作措施与步骤、时间安排等方面提出本地区具体方案或行动计划，并分阶段采取执法行动。各地区有关方案与计划要于9月上旬报我局，我局根据各地方案与建议，结合其实际知识产权保护状况与执法任务，给予积极推动。同时，各地方局应争取本地政府加大支持力度。本方案年内与明年上半年执行情况要分别于今年12月底与明年7月上旬报我局。各地知识产权局应从政治高度重视加强行政执法工作，大力开展各项执法活动，认真贯彻国务院工作部署。我局将对本方案执行情况进行深入检查和全面总结。各省、自治区、直辖市知识产权局对执行本方案的建议、意见与执行中的重大问题，请及时向我局反映。 |
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