| 释义 |
法律分析：集成电路布图设计是一项重要的技术活动，需要耗费大量时间和精力，但其一旦被泄露，就会被复制和贩卖，导致设计者利益受损。因此，专有权保护对于集成电路布图设计的创新和发展至关重要。
法律依据：
1.《中华人民共和国著作权法》第二十五条：以任何方式创作的作品均为著作权对象。著作权人对其作品享有署名权、发表权、修改权、保护作品完整权等权利。
2.《集成电路布图设计保护条例》第三条：布图设计人享有布图设计作品的著作权，包括署名权、发表权、修改权和完整权。
3.《中华人民共和国专利法》第二十一条：专利权人对已经获得授权的他人实施专利权的行为依法享有排他权。
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